X射线荧光光谱分析(XRF)
X射线荧光光谱学和 XRF 应用
X射线荧光光谱学和 XRF 应用
X射线荧光光谱分析(XRF)是一种用于测定多种类型样品（包括固体、液体、浆料和松散粉末）化学成分的分析技术。X射线荧光光谱分析还可用于确定分层和涂层的厚度和成分。它可以分析从铍 (Be) 到铀 (U) 的各种元素，涵盖从 100 wt% 到百万分之一以下的浓度范围。
XRF 是一种原子发射方法，类似于光发射光谱 (OES)、ICP 和中子活化分析（伽马光谱）。此类方法可以测量由样品中的带电原子发出的“光线”（此情况下为 X射线）的波长和强度。
在 XRF 中，来自 X射线光管主 X射线光束的辐照会使荧光 X射线的辐射呈现出样品中所存在元素的分散能量特征。
右图：X射线荧光 (XRF) 过程示例：1) 入射光子 2) 特征光子。
XRF 是一种可广泛应用于各个行业和科学领域的多功能分析技术。它的适应性和精确性使其成为了解和控制材料元素成分不可或缺的工具。从帮助工业领域进行材料鉴定和质量控制，到保护文化遗产和推动科学研究，XRF 在增进我们对元素世界的了解方面继续发挥着举足轻重的作用。
XRF 广泛应用于质量和过程控制。用户只需进行有限的样品制备工作，就能快速获得精准的结果，而且可以随时实现自动化，以便在高通量工业环境中使用。XRF 的精确性和非破坏性使其成为各种制造领域实现质量控制的重要工具，例如：
XRF 在材料研发中发挥着关键作用：
在制药和医疗领域，XRF 也有多种应用：
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用于样品 X射线荧光光谱分离（分散）、识别和强度测量的技术催生了两种主要类型的X射线荧光光谱仪：波长色散式 (WDXRF) 和能量色散式 (EDXRF) X射线荧光光谱仪。
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