X 射线荧光 (XRF)

X 射线荧光光谱学和 XRF 应用

什么是 X 射线荧光?

X 射线荧光 (XRF) 是可用于测定多种类型样品(包括固体、液体、浆料和疏松粉末)化学成分的分析技术。 X 射线荧光还用于确定分层和涂层的厚度和成分。 它可以分析从铍 (Be) 到铀 (U) 的各种元素,涵盖从 100 wt% 到百万分之一以下的浓度范围。

XRF 分析有哪些好处?

XRF 分析是一种可靠的技术,结合了高精度和准确性以及简便、快速的样品制备等优点。 它可以在要求实现高处理量的工业环境下自动完成使用准备,并且提供定性和定量的样品相关信息。 这种定性和定量信息的轻松组合还使快速筛选(半定量)分析成为可能。

XRF 的工作原理

XRF 是一种原子发射方法,类似于光发射光谱 (OES)、ICP 和中子活化分析(伽马光谱)。 此类方法可以测量由样品中的带电原子发出的“光线”(此情况下为 X 射线)的波长和强度。 在 XRF 中,来自 X 射线光管主 X 射线光束的辐照会使荧光 X 射线的辐射呈现出样品中所存在元素的分散能量特征。 

元素成分的测定

用于样品 X 射线荧光光谱分离(分散)、识别和强度测量的技术催生了两种主要类型的光谱仪:波长色散式 (WDXRF)能量色散式 (EDXRF) 系统。

XRF 分析仪

我们提供广泛的 X 射线荧光解决方案,包括波长和能量色散式解决方案,用于分析各种材料和应用的元素成分。 在下表中了解我们的解决方案组合:

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

元素分析

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Epsilon 系列

Epsilon 系列

快速、准确的原位和在线元素分析

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Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪

Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪

高样品处理量

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2830 ZT 晶圆分析仪

2830 ZT 晶圆分析仪

半导体薄膜计量解决方案

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测量类型
薄膜测量
元素分析
污染物检测与分析
元素量化
化学鉴定
技术类型
波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF)
能量色散式 X 射线荧光 (EDXRF)
元素范围 Be-Am F-Am B-Am B-Am
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
分辨率 (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
通量 160per 8h day - 240per 8h day Up to - 160per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour