简介 

X 射线荧光 (XRF) 光谱测定是一种无损式分析技术,可用于获取不同类型材料的元素信息。 它已在许多行业和应用领域中得到广泛运用,包括:水泥生产、玻璃生产、采矿、选矿、钢铁及有色金属、石油和石化、聚合物及相关行业、制药、保健产品和环保。 光谱仪系统通常分为两大类:波长色散式系统 (WDXRF) 和能量色散式系统 (EDXRF)。 两者之间的区别在于检测系统。 

什么是 WDXRF?其工作原理是什么?

在所有光谱仪的基本概念中,都包含一个辐射源、一个样品和一个检测系统。 在 WDXRF 光谱仪中,X 射线光管用作直接照射样品的光源,并且使用波长色散式检测系统来测量样品发出的荧光。 分光晶体根据波长(而不是能量)来分离 X 射线,可用于识别每种不同元素发出的特征辐射。 此类分析可以通过逐一(依次)测量不同波长的 X 射线强度来完成,或者在固定位置同时测量所有不同波长的 X 射线强度。 ​

WDXRF 光谱测定的优势​

  • 高分辨率,特别适用于轻元素
  • 低探测限制,特别适用于轻元素
  • 稳定的分析
  • 高处理量

Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪

Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪

高样品处理量

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测量 薄膜测量, 元素分析, 元素量化
元素范围 Be-U
分辨率 (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
样品处理量 240per 8h day - 480per 8h day
技术类型 波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF)

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

元素分析

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测量 薄膜测量, 元素分析, 污染物检测与分析, 元素量化
元素范围 Be-U
分辨率 (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
样品处理量 160per 8h day - 240per 8h day
技术类型 波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF), 能量色散式 X 射线荧光 (EDXRF)

2830 ZT 晶圆分析仪

2830 ZT 晶圆分析仪

半导体薄膜计量解决方案

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测量 化学鉴定, 薄膜测量, 元素分析, 污染物检测与分析, 元素量化
元素范围 Be-U
分辨率 (Mg-Ka) 35eV
样品处理量 up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
技术类型 波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF)

Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪

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高样品处理量

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

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元素分析

2830 ZT 晶圆分析仪

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半导体薄膜计量解决方案

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测量 薄膜测量, 元素分析, 元素量化 薄膜测量, 元素分析, 污染物检测与分析, 元素量化 化学鉴定, 薄膜测量, 元素分析, 污染物检测与分析, 元素量化
元素范围 Be-U Be-U Be-U
分辨率 (Mg-Ka) 35eV 35eV 35eV
LLD 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
样品处理量 240per 8h day - 480per 8h day 160per 8h day - 240per 8h day up to 25 wafers per hour
技术类型 波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF) 波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF), 能量色散式 X 射线荧光 (EDXRF) 波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF)