Epsilon Xline 将我们先进的能量色散 XRF (EDXRF) 技术与在线功能相结合。这种先进的解决方案可在卷对卷 (R2R) 涂层工艺中实现实时材料监测和过程控制。直接分析可以持续优化材料成分和负载，有助于最大限度地减少不合格生产并最大限度地提高成本效率。
适应性强的 Epsilon Xline 可以在各种表面和元素中提供精确和准确的过程控制。
在线全面自动化。得益于 Epsilon Xline 的无缝集成功能，可享受 R2R 的连续生产，适用于各种薄膜和涂层应用。
简单且安全。与手持式或传统仪器不同，Epsilon Xline 完全安全且易于使用，并提供高度准确的分析数据。
毕生经验。Epsilon Xline 借鉴 Malvern Panalytical 在元素分析领域长达 70 多年的 宝贵经验，与我们的行业合作伙伴合作开发，旨在满足其当前的需求，同时也能共同展望行业的未来。
最大产量。通过实时监测和无中断实现具有成本竞争力的生产，为您提供所需的直接洞察力和控制力，助力您的运营发挥最大效益。
最佳材料效率。消除不一致，避免浪费贵重材料，并使用我们的行业标准解决方案确保产出高质量产品。
经过验证的专利精度。Epsilon Xline 由客户开发和测试，采用获得专利的高度校准技术，可确保稳定的分析，以获得准确的结果。
铂催化剂占燃料电池总成本的 20% 以上，因此通过均匀分散和一致的分层优化催化剂涂层至关重要。快速、准确的工艺监测是理想的解决方案！Epsilon Xline 使高效的操作控制变得简单，帮助您：
X 射线荧光 (XRF) 是一种无损元素分析技术，可在催化膜涂层过程中进行在线监测，无需采集样品，不会造成化学或物理变化。
由此实现的实时在线分析可以快速优化许多工艺参数和产品属性。
Epsilon Xline 和我们的一系列 Epsilon 仪器采用经过验证的强大技术，该技术由最新的激发和探测技术提供支持。
设计精良的光路、适合轻元素和重元素的广泛激发功能，加上高灵敏度 SDD 探测器系统，这一切造就了 Epsilon Xline 的强大性能。这些创新共同产生了高度可重复和准确的结果，并且维护需求低。
| 样品类型 | 涂覆生产线 |
|---|---|
| Coating types | 连续、通道、补丁 |
| Line speed continuous coating | 最大 30 米/分钟 |
| Line speed patch coating | 最大 11 米/分钟
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| Type | 金属陶瓷，侧窗式
50 µm (Be) |
|---|---|
| Anode material | Ag |
| Tube setting | 由软件控制，适用电压 4 - 50 kV，最高 3 mA，最大射线管功率 15 W |
| X-Ray filtering | 六个，可通过软件选择（Cu 300 µm、Cu 500 µm、Al 50 µm、Al 200 µm、Ti 7 µm、Ag 100 µm） |
| Type | 高分辨率硅漂移探测器 SDD10
窗口: 8 µm (Be) |
|---|---|
| 分辨率 | < 145 eV @ 5.9 keV/1000 cps
通常为 135 eV @ 5.9 keV/1000 cps
|
| Radiation levels | 距离外表面 10 cm 处时 < 1 µSv/h |
|---|
通过内置 OPC 连接将 Epsilon Xline 无缝集成到您的生产线中。随附的专用软件包使您可以轻松针对不同的材料和测量模式设置 Epsilon Xline。通过直接在仪器中输入命令或通过远程控制台输入命令，易于使用的界面将显示完整追踪数据的概览。
Epsilon 软件是配合 PANalytical Epsilon 1 和 Epsilon 4 台式 EDXRF 系统系列使用的 XRF 分析软件平台。该软件提供了设置和运行 Epsilon 台式系统所需的全部功能。软件内置的丰富智能大大简化了分析程序的安装过程，使用户能够受益于半个世纪以来积累的应用专业知识。即使操作员经验有所欠缺，但只需对其稍加指导，他们便可以轻松执行日常 XRF 分析这样的例行任务。提供了许多功能，增强了软件的可用性。
Stratos 软件模块采用的独特算法可通过执行的测量来实现多层膜材料的化学成分和厚度测定。该软件为涂层、表层和多层结构的分析提供了一种快速、简单且无损的方法。Virtual Analyst 针对复杂的堆栈，在测量程序设置期间提供了丰富的信息。
Stratos 可用于 Epsilon 4 EDXRF 和 Zetium XRF 光谱仪，无论是什么样品类型或基体，均可提供快速可靠的分析结果。
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