在各种层结构的微电子和光电子器件的开发和批量生产中,X 射线计量是用于薄膜分析的理想工具。 基于 X 射线方法的测量工具,如 XRD、XRR 和 XRF 经证明可以快速、无损、可靠、准确地获取从超薄单层到复杂多层薄膜的关键薄膜参数。

X 射线计量技术通过开发基于层的新应用和技术紧紧跟随行业的发展,它们在从半导体器件的研发阶段到试点生产、再到全面自动化投产的整个过程中一直是不可或缺的工具。