薄膜测量​

X 射线薄膜分析

在各种层结构的微电子和光电子器件的开发和批量生产中,X 射线计量是用于薄膜分析的理想工具。 基于 X 射线方法的测量工具,如 XRD、XRR 和 XRF 经证明可以快速、无损、可靠、准确地获取从超薄单层到复杂多层薄膜的关键薄膜参数。

X 射线计量技术通过开发基于层的新应用和技术紧紧跟随行业的发展,它们在从半导体器件的研发阶段到试点生产、再到全面自动化投产的整个过程中一直是不可或缺的工具。

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

Zetium 系列X射线荧光光谱仪

元素分析

Axios FAST 多道同时式波长色散型X射线荧光光谱仪

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高样品处理量

2830 ZT 晶圆分析仪

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半导体薄膜计量解决方案

Epsilon 4

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快速、准确的原位元素分析

X'Pert³ MRD

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新一代高分辨X射线衍射仪

X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ MRD XL

新一代高分辨X射线衍射仪

测量类型
薄膜测量
技术类型
波长色散式 X 射线荧光 (WDXRF)
X 射线衍射 (XRD)
能量色散式 X 射线荧光 (EDXRF)