在外延、层结构的微电子和光电子设备的开发和批量生产中,X 射线计量是用于化合物半导体薄膜分析的理想工具。在对外延层、异质结构和超晶格系统的关键材料参数进行离位分析时,基于 X 射线法(比如 XRD、XRR 和 XRF)的测量工具已被证明非常有用。