HTK 16N – high-temperature chamber
可快速加热至 1600 ºC,用于反射几何中的粉末 XRD 分析。
原位 X 射线分析通常被称为非常温环境条件下的分析,是学术与工业环境中高级材料研究的关键应用之一。
材料的任何宏观性质都与其结构特性直接相关(如晶体对称性、晶粒尺寸、空位、纳米颗粒或细孔的大小和形状)。 温度、压力、不断变化的气体环境和机械应力触发相变、化学反应、再结晶等。
X 射线衍射 (XRD) 和 X 射线散射技术是获得这些变化正确且精确的原位表征的首要选择,有时甚至是唯一的选择。 不论是优化生产过程、调整合成过程,还是研究和制作新材料,原位 X 射线分析都是最全面的问题解决工具。
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