概述

Parsum IPP 80 适用于食品和制药应用,可用于批量制粒工艺中的端点检测,以及连续制造工艺的实时监控。 适合在磨碎、团聚、制粒、涂层以及筛分等设备操作中使用。

  • 紧凑、轻巧且便于安装,可与新型加工设备或现有加工设备快速整合 
  • 表征范围为 50 µm 至 6mm 且速度高达 50 m/s 的颗粒 
  • 高固体负荷的可重复测量,支持实时流化床监控 
  • 通过综合型、客制化软件进行实时测量及反馈
  • 无需样品提取即可执行测量 
  • 提供多种支持测量研磨类及粘性颗粒的附件 
  • 符合在 0 区和 20 区内操作的 ATEX 要求

工作原理

Parsum 探头采用空间滤波测速的测量理论。 这是一种以数字为基础的弦长测定法,通过收集各个颗粒的数据,获得颗粒粒度分布和速度分布。

测量原理

穿过 Parsum 探头测量区的颗粒会阻止激光光源发出的光线。 使用由光纤组成的线性监测器阵列可监测产生的阴影。 通过跟踪颗粒阴影在顺序监测器元素中的移动,可计算颗粒速度。 通过测量颗粒阻止单条光纤的时长,可确定颗粒粒度。

测量大量颗粒可得出令人满意的可靠结果,从而导出各种粒度参数以及体积分布的参数。

Parsum 探头可直接安装在工艺管道内或容器内。 虽然无需备制样品,但仍可采用内部压缩空气来分散团块,保持流道与光学器件无材料,同时可在高固体负荷条件下进行测量。

信息从测量区域通过光纤电缆传递至探头的电子外壳,增加了仪器的稳健性。 探头与计算机之间可使用长达 100m 的直接电缆连接,从而支持在安全区域内操作系统。 通过 4-20mA 信号可将结果报告给 PCL,或者使用 OPC 或 TCP 服务器报告给工厂控制系统。

技术指标

颗粒粒度

测量范围::
50µm 至 6mm
速度测量范围:
0.01 - 50m/s
浓度范围:
高达 30v%*
与分散剂、添加剂及样品接触的材料:

316L 不锈钢(DIN1.4435,1.4404)

Sapphire 窗口

注解:
* 取决于样品和颗粒特性

重量与尺寸

尺寸::
101mm x 85mm x 65mm

探头

长度:
282mm
直径:
25mm

运行环境

温度(可控):
高达100 °C
温度范围:
10 °C - 60 °C
压力:
高达 15 bar
湿度:
35% - 80%无冷凝
外壳防护等级:
IP 65
防爆装置:
0/20 区通过 ATEX 认证
电源功率:
100-240 V,50-60 Hz

常规

光源:
670 nm
激光安全::
1 类

附件

Parsum IPP 80-P

D24 线内样品分散器

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用于颗粒工艺的线内分散器

D24 样品分散器稀释并分散从工艺中选取的材料,同时将其送至 Parsum 探头测量区域。 使用 Dv50 对 50 µm 至 1.2mm 的颗粒进行可靠的测量,特别适合在流化床中进行直接测量。

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D12 线内样品分散器

Image

用于粗颗粒及高固体负荷的线内分散装置。

D12 样品分散器在工艺过程中进行材料采样、稀释和分散,同时进行呈现以便使用 Parsum 线内测量探头实现准确的颗粒粒度分布和速度测量。 确保对高固体负荷的工艺内粗颗粒进行坚固耐用的准确测定,例如造粒系统内。

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近线测量站

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用于工艺应用的近线式颗粒测定。

与Parsum IPP70-S或IPP70-SE探头结合使用的近线式测量站,可以对试验室或设备上的工艺样品进行快速有效地颗粒测定。

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4 –20 mA接口板(8通道)

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自Parsum探头到中央控制系统的有效数据传递。

有效数据传递至中央控制系统,用于自动化或数据显示。 八个通道可供于四个探头使用,与计算机安装距离可达100米。

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支持

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