高分辨率 X 射线衍射

今天，大多数现代半导体器件结构是在由硅、硅锗、III-V 和 II-VI 化合物制成的基体上气相外延生长而成的。 这些薄膜是几乎完美的晶体薄膜，具有相对较低的位错密度。

薄膜性能很大程度上取决于它们的成份和结构参数。 通过使用高分辨率 X 射线光学系统测量摇摆曲线和倒易空间图来获得诸如层厚度、成份、应力、张驰度和结构质量的信息。 通过 X 射线衍射成像方法，例如 X 射线形貌术能够可视化缺陷的空间分布。

在对外延层、异质结构和超晶格系统进行高分辨率 X 射线衍射实验时，需要高单色、具有明确的波长分布和低角度发散的 X 射线束。

马尔文帕纳科的 X'Pert³ MRD (XL) 和 Empyrean 系统可满足 HRXRD 的需求。有多种混合单色器和高分辨率单色器可供选择，以满足不同材料的特定分辨率要求。 PreFIX 安装可以快速简单地进行设置更改，无需重新校准。

操作员和高级用户使用 Epitaxy 和 Smoothfit 软件可以分析摇摆曲线、倒易空间图和晶片图。 使用专利算法可以模拟和拟合摇摆曲线。