高分辨率 X 射线衍射 (HRXRD) 是一系列应用技术,用于对大多数几乎完美的分层结晶结构材料进行无损分析。 能够揭示和量化结构参数,对于成功应用这些材料是至关重要的。

半导体的分层结构

今天,大多数现代半导体器件结构是在由硅、硅锗、III-V 和 II-VI 化合物制成的基体上气相外延生长而成的。 这些薄膜是几乎完美的晶体薄膜,具有相对较低的位错密度。

薄膜性能很大程度上取决于它们的成份和结构参数。 通过使用高分辨率 X 射线光学系统测量摇摆曲线和倒易空间图来获得诸如层厚度、成份、应力、张驰度和结构质量的信息。 通过 X 射线衍射成像方法,例如 X 射线形貌术能够可视化缺陷的空间分布。

高分辨率 X 射线衍射解决方案

在对外延层、异质结构和超晶格系统进行高分辨率 X 射线衍射实验时,需要高单色、具有明确的波长分布和低角度发散的 X 射线束。

Malvern Panalytical 的 X'Pert³ MRD (XL) 和 Empyrean 系统可满足 HRXRD 的需求。 有多种混合单色器和高分辨率单色器可供选择,以满足不同材料的特定分辨率要求。 独特的 PreFIX 安装可以快速简单地进行设置更改,无需重新校准。

操作员和高级用户使用 Epitaxy 和 Smoothfit 软件可以分析摇摆曲线、倒易空间图和晶片图。 使用专利算法可以模拟和拟合摇摆曲线。

Empyrean

Empyrean

智能X射线衍射仪

更多细节
测量 Crystal structure determination, 物相鉴定, Phase quantification, Contaminant detection and analysis, Residual stress, Epitaxy analysis, Interface roughness, 织构分析, 3D structure / imaging, Reciprocal space analysis
测角仪配置 Vertical goniometer, Θ-Θ
粒度范围 1 - 100 nm
技术类型 X-ray Diffraction (XRD)

Empyrean

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粒度范围 1 - 100 nm
技术类型 X-ray Diffraction (XRD)